[发明专利]显影辅助剂在审
| 申请号： | 201810212622.9 | 申请日： | 2018-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN108227410A | 公开（公告）日： | 2018-06-29 |
| 发明（设计）人： | 冯献超;冯泽宪;唐瑞泽 | 申请（专利权）人： | 昆山长优电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32 |
| 代理公司： | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 | 代理人： | 杨晓玲 |
| 地址： | 215341 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种显影辅助剂，包括以下各组分且各组分重量百分含量为：有机碱：0.01～5％；无机碱：0.01～5％；有机溶剂：0.1～10％；表面活性剂：0.01～5％；水：余量。本发明显影辅助剂可防止干膜显影过程中残渣的产生，减少金属面污染，提升产品良率；还可以提升溶膜量，进而减少显影液用量，降低显影液废水处理量及生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 辅助剂 显影 表面活性剂 显影液用量 产品良率 显影过程 有机溶剂 废水处理 金属面 无机碱 显影液 有机碱 干膜 溶膜 生产成本 污染 | ||
【主权项】：
1.一种显影辅助剂，其特征在于包括以下各组分且各组分重量百分含量为：有机碱：0.01～5％；无机碱：0.01～5％；有机溶剂：0.1～10％；表面活性剂：0.01～5％；水：余量。
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