[发明专利]反射膜及其制备方法、反射组件及显示装置有效
| 申请号： | 201810212835.1 | 申请日： | 2018-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN108363237B | 公开（公告）日： | 2021-03-05 |
| 发明（设计）人： | 胡金良;詹成勇;任文明;万婷 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人： | 杨广宇 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种反射膜及其制备方法、反射组件及显示装置，属于显示技术领域。所述反射组件包括：反射膜和调节电路，反射膜包括：第一透明基板、第二透明基板和反射层，第一透明基板和第二透明基板相对设置，反射层设置在第一透明基板和第二透明基板之间；反射层包括：液晶、呈螺旋状排布的多个手性阴离子以及螺旋状的聚合物，聚合物包括呈螺旋状排布的多个可聚合阳离子；调节电路用于向反射膜施加预设电场，以使得多个手性阴离子在预设电场的作用下移动，以改变多个手性阴离子在预设电场的方向上的含量梯度，且改变前的含量梯度和改变后的含量梯度均不为零。本发明解决了反射膜的性能较差的问题。本发明用于制备反射膜。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 及其 制备 方法 组件 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种反射组件，其特征在于，所述反射组件包括：反射膜和调节电路，所述反射膜包括：第一透明基板、第二透明基板和反射层，所述第一透明基板和所述第二透明基板相对设置，所述反射层设置在所述第一透明基板和所述第二透明基板之间；所述反射层包括：液晶、呈螺旋状排布的多个手性阴离子以及螺旋状的聚合物，所述聚合物包括呈螺旋状排布的多个可聚合阳离子；所述调节电路用于向所述反射膜施加预设电场，以使得所述多个手性阴离子在所述预设电场的作用下移动，以改变所述多个手性阴离子在所述预设电场的方向上的含量梯度，且改变前的所述含量梯度和改变后的所述含量梯度均不为零。
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