[发明专利]一种耐酸性光控荧光分子开关及其合成方法和应用有效
申请号: | 201810220039.2 | 申请日: | 2018-03-16 |
公开(公告)号: | CN110272432B | 公开(公告)日: | 2021-11-09 |
发明(设计)人: | 徐兆超;祁清凯 | 申请(专利权)人: | 中国科学院大连化学物理研究所 |
主分类号: | C07D491/107 | 分类号: | C07D491/107;C07D519/00;C09K11/06;G01N21/64 |
代理公司: | 沈阳晨创科技专利代理有限责任公司 21001 | 代理人: | 郑虹 |
地址: | 116023 *** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: |
本发明提供一种耐酸性光控荧光分子开关及其合成方法和应用,该光控荧光分子开关化学结构特征如下:荧光团母体是罗丹明类染料,罗丹明发色团母体存在不同的取代基R |
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搜索关键词: | 一种 耐酸 光控 荧光 分子 开关 及其 合成 方法 应用 | ||
【主权项】:
1.一种耐酸性光控荧光分子开关,其特征在于:该光控荧光分子开关化学结构特征如下:荧光团母体是罗丹明类染料,罗丹明发色团母体存在不同的取代基R1、R2、R3、R4、X、Y,内酰胺的邻位存在伯胺或仲胺取代基,其结构通式如下所示:其中:R1、R2、R3、R4、R5是相同或不同的取代基,具体为H、CmH2m+1、CmH2m‑1、CmH2m‑3、C6+mH5+2m、CmH2m+1CO、CmH2m+1SO2或CmH2m+1PhSO2中的任一基团;m是1~20之间的整数;X为O、C、Si、Ge、S或SO2;Y为H或SO3Na;Z为CmH2m+1、CmH2m‑1、CmH2m‑3、C6+mH5+2m、(C2H4O)mCH3、(C2H4O)mOH、CmH2m(C4H8NO)、6‑(4‑苯乙炔基)萘酐、6‑(4‑苯乙炔基)萘酰亚胺基、4‑苯乙烯基吡啶盐基、6‑(4‑苯乙炔基)苝酰亚胺基、或其带有单个或多个二级取代基团的衍生结构;所述二级取代基团是F、Cl、Br、I、R6、CA0A13、CA0A1A2A3、NO2、OR6、SR6、SO2R6、SOR6、SO3R6、NHR6、NR6R7、CHO、CH2OR6、CO2R6、OCOR6、OCOCH2R6、CHBCHO、CB2CHO、CHBCO2R6或CHBOR6中任何一种基团;A0、A1、A2、A3和B是相同或不同的基团,具体为H、F、Cl、Br、I、NO2、OR6、SR6、NHR6、NR6R7、(CH2)mCHO、(CH2)mCO2R6或R6中的任何一种基团;R6和R7是相同或不同的基团,具体为H、CmH2m+1、CmH2m‑1、CmH2m‑3或C6+mH5+2m中的任一基团;m为1~20之间的整数。
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