[发明专利]用于去除表面上的残余物的清洗调配物有效
| 申请号： | 201810223834.7 | 申请日： | 2014-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN108485840B | 公开（公告）日： | 2020-12-29 |
| 发明（设计）人： | 高桥智威;杜冰;W·A·沃伊特恰克;T·多瑞;E·A·克内尔 | 申请（专利权）人： | 富士胶片电子材料美国有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/26 | 分类号： | C11D7/26;C11D7/32;C11D7/50;C11D7/60 |
| 代理公司： | 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 | 代理人： | 林祥 |
| 地址： | 美国罗*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于去除表面上的残余物的清洗调配物，所述清洁组合物由以下组成：1)至少一种氧化还原剂；2)至少一种第一螯合剂，所述第一螯合剂是多氨基多羧酸；3)至少一种金属腐蚀抑制剂，所述金属腐蚀抑制剂为经取代或未经取代的苯并三唑；4)至少一种有机溶剂，所述有机溶剂选自水溶性醇、水溶性酮、水溶性酯和水溶性醚；5)水；和6)任选地，至少一种pH调节剂，所述pH调节剂是不含金属离子的碱。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 去除 表面上 残余物 清洗 调配 | ||
【主权项】：
1.一种清洁组合物，所述清洁组合物由以下组成：1)至少一种氧化还原剂；2)至少一种第一螯合剂，所述第一螯合剂是聚氨基聚羧酸；3)至少一种金属腐蚀抑制剂，所述金属腐蚀抑制剂为经取代或未经取代的苯并三唑；4)至少一种有机溶剂，所述有机溶剂选自由水溶性醇、水溶性酮、水溶性酯和水溶性醚组成的组；5)水；和6)任选地，至少一种pH调节剂，所述pH调节剂是不含金属离子的碱。
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