[发明专利]光掩模和光掩模坯以及光掩模的制造方法

摘要

提供能够兼顾图案的细微化和多灰阶的半色调掩模。在透明基板上具有相移膜和半透膜的层叠区域、以及由曝光光的光透过率比上述层叠区域高的半透膜构成的半透过区域，上述层叠区域具有与上述半透过区域和/或露出透明基板的透明区域接触的边界部，上述相移膜使曝光光的相位偏移，而且，上述层叠区域相对于曝光光的光透过率为1～8％。在上述边界部，曝光光的强度分布急剧变化，能够改善被曝光的光致抗蚀剂图案的剖面形状。

主权项

1.一种光掩模，其特征在于，该光掩模具有：在透明基板上由半透膜构成的半透过区域；从所述透明基板侧依次层叠使曝光光的相位反转的相移膜和所述半透膜的层叠区域；以及露出所述透明基板的透明区域，所述层叠区域具有与所述半透过区域相接的边界部或与所述透明区域相接的边界部，或者，具有与所述半透过区域相接的边界部和与所述透明区域相接的边界部，所述半透过区域对于曝光光的光透过率大于所述层叠区域对于曝光光的光透过率，小于所述透明基板对于曝光光的光透过率，所述半透膜的相移角是0.1度以上20度以下。