[发明专利]一种阵列基板的制备方法及其间隔件结构的制备方法

摘要

本发明实施例公开了一种阵列基板的间隔件结构的制备方法，其包括步骤：在阵列基板的色阻层上形成多个高低不等的第一衬垫载台及第二衬垫载台；在其上沉积一层覆盖第一衬垫载台和第二衬垫载台的黑色光敏树脂材料；透过光罩对光敏树脂材料进行曝光，所述光罩具有透光区或遮光区,且在第二衬垫载台区域设置有透光调节部件，并进行显影处理，使黑色光敏树脂材料在第一衬垫载台上形成主间隔件，在第二衬垫载台上形成次间隔件，并在次间隔件周围区域形成凹槽或凹谷；对显影后的黑色光敏树脂材料进行高温烘烤流平处理，使次间隔件的至少部分黑色光敏树脂材料流平填充至凹槽或凹谷中。本发明还公开了相应的阵列基板的制备方法。实施本发明实施例，可以可以增大主间隔件与次间隔件之间的段差及提高其平整度，可提高产品良率。