[发明专利]描绘装置、描绘方法以及记录介质有效
| 申请号： | 201810236435.4 | 申请日： | 2018-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN108618342B | 公开（公告）日： | 2021-05-14 |
| 发明（设计）人： | 山崎修一 | 申请（专利权）人： | 卡西欧计算机株式会社 |
| 主分类号： | A45D29/00 | 分类号： | A45D29/00 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 曾贤伟;郝庆芬 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及描绘装置、描绘方法以及记录介质。一种描绘装置，其特征在于，该描绘装置具备处理器，所述处理器获取作为描绘对象的手或脚的指甲的区域的长宽比，在根据所述指甲的区域的长宽比改变美甲设计的长宽比来使所述美甲设计嵌合于所述指甲的区域的第1嵌合模式中，将所述美甲设计的长宽比的变化率设定为不超过对应于所述美甲设计的界限变化率的范围的值。 | ||
| 搜索关键词： | 描绘 装置 方法 以及 记录 介质 | ||
【主权项】：
1.一种描绘装置，其特征在于，该描绘装置具备处理器，所述处理器获取作为描绘对象的手或脚的指甲的区域的长宽比，在根据所述指甲的区域的长宽比改变美甲设计的长宽比来使所述美甲设计嵌合于所述指甲的区域的第1嵌合模式中，将所述美甲设计的长宽比的变化率设定为不超过对应于所述美甲设计的界限变化率的范围的值。
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