[发明专利]贯通箔制造方法有效
| 申请号： | 201810237703.4 | 申请日： | 2018-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN109913705B | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | 辛珍植;申达雨;李文秀;金星汉;吴美贤;尹贤;朴志润;李京南 | 申请（专利权）人： | 韩国JCC株式会社 |
| 主分类号： | C22C21/00 | 分类号： | C22C21/00;C22F1/04;H01M4/66 |
| 代理公司： | 北京锺维联合知识产权代理有限公司 11579 | 代理人： | 罗银燕 |
| 地址： | 韩国忠清*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及贯通箔制造方法，通过在醇分解性树脂的表面图案印刷多元醇(polyhydirc alchol)来将醇分解性树脂制造成蚀刻掩模图案后，利用蚀刻掩模图案在金属片形成多个贯通孔来制造贯通箔。上述贯通箔制造方法的特征在于，包括：在金属片的表面涂敷醇分解性树脂来形成醇分解性树脂层的步骤；若形成醇分解性树脂层，则通过在醇分解性树脂层的表面印刷多元醇来形成醇分解性掩模图案层的步骤；以及若形成醇分解性掩模图案层，则使用醇分解性掩模图案层作为掩模来以在金属片形成多个贯通孔的方式进行蚀刻的步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 贯通 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种贯通箔制造方法，其特征在于，包括：在金属片的表面涂敷醇分解性树脂来形成醇分解性树脂层的步骤；若形成上述醇分解性树脂层，则通过在上述醇分解性树脂层的表面印刷多元醇来形成醇分解性掩模图案层的步骤；以及若形成上述醇分解性掩模图案层，则使用上述醇分解性掩模图案层作为掩模来以在金属片形成多个贯通孔的方式进行蚀刻的步骤。
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