[发明专利]一种曝光机机台异物检测和去除装置及曝光机有效

专利信息
申请号: 201810238540.1 申请日: 2018-03-22
公开(公告)号: CN108267936B 公开(公告)日: 2021-04-23
发明(设计)人: 唐滔;隆清德;陈轶;杨泽荣;吴催豪;郑书书 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01N21/88
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 张润
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了曝光机机台异物检测和去除装置以及曝光机。机台异物检测和去除装置包括:异物检除单元,其包括:异物检知组件,用于检测曝光机机台上是否存在异物颗粒及确定其位置;研磨组件,用于研磨去除机台上附着的异物颗粒;真空吸尘组件,用于吸取研磨过程中产生的细小异物和机台上的细小异物;导轨组件,与异物检知组件,研磨组件和真空吸尘组件可拆卸地连接,用于携带三者平行于曝光机机台平面进行水平定位移动;升降组件,用于携带三者垂直于曝光机机台平面进行竖直定位移动。本发明既可在生产过程中发现mura后对颗粒异物自动进行快速定位,彻底清除;亦可在生产前进行全面检测和异物去除,预防机台本身异物导致的产品不良。
搜索关键词: 一种 曝光 机台 异物 检测 去除 装置
【主权项】:
1.一种曝光机机台异物检测和去除装置,其特征在于,包括异物检除单元,导轨组件和升降组件,其中,所述异物检除单元包括:异物检知组件,用于检测曝光机机台上是否存在异物颗粒以及确定异物颗粒的位置;研磨组件,用于研磨去除曝光机机台上附着的异物颗粒;真空吸尘组件,用于吸取所述研磨组件研磨过程中产生的细小异物和曝光机机台上的细小异物;所述导轨组件与所述异物检知组件,研磨组件和真空吸尘组件可拆卸地连接,用于携带所述异物检知组件,研磨组件和真空吸尘组件平行于曝光机机台平面进行水平定位移动;所述升降组件与所述导轨组件连接,用于携带所述异物检知组件,研磨组件和真空吸尘组件垂直于曝光机机台平面进行竖直定位移动。
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