[发明专利]磁性物理不可克隆函数器件及磁性物理不可克隆函数装置在审
| 申请号： | 201810239799.8 | 申请日： | 2018-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN108321292A | 公开（公告）日： | 2018-07-24 |
| 发明（设计）人： | 许炎 | 申请（专利权）人： | 武汉华芯纳磁科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L43/06 | 分类号： | H01L43/06 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 王戈 |
| 地址： | 430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区光*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开一种磁性物理不可克隆函数器件及装置。器件包括：衬底、设于衬底上表面的重金属层、设于重金属层上表面的磁性物理不可克隆函数层，磁性物理不可克隆函数层包括：设于重金属层上表面的钉扎层、设于钉扎层上表面的隧穿层及设于隧穿层上表面的自由层；或者，磁性物理不可克隆函数层包括：设于重金属层上表面的自由层、设于自由层上表面的隧穿层及设于隧穿层上表面的钉扎层；自由层具体包括钴铁硼薄膜层及设于钴铁硼薄膜层上表面的氧化镁薄膜层。本发明利用钴铁硼薄膜与氧化镁薄膜交界面的各向异性特点制备的物理不可克隆函数器件及装置具有随机性和唯一性的特点，具备独特的不可克隆和防篡改属性。 | ||
| 搜索关键词： | 上表面 磁性物理 克隆 重金属层 隧穿层 自由层 钉扎层 钴铁硼 薄膜层 物理不可克隆函数 氧化镁薄膜层 随机性 衬底上表面 氧化镁薄膜 唯一性 函数装置 防篡改 衬底 薄膜 制备 交界 | ||
【主权项】：
1.一种磁性物理不可克隆函数器件，其特征在于，所述器件包括：衬底、设于所述衬底上表面的重金属层、设于所述重金属层上表面的磁性物理不可克隆函数层，其中，所述磁性物理不可克隆函数层具体包括：设于所述重金属层上表面的钉扎层、设于所述钉扎层上表面的隧穿层及设于所述隧穿层上表面的自由层；或者，所述磁性物理不可克隆函数层具体包括：设于所述重金属层上表面的自由层、设于所述自由层上表面的隧穿层及设于所述隧穿层上表面的钉扎层；所述自由层具体包括钴铁硼薄膜层及设于所述钴铁硼薄膜层上表面的氧化镁薄膜层。
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