[发明专利]等离子体处理装置

摘要

本发明提供一种等离子体处理装置，其可根据旋转体的表面的经过速度不同的位置来对通过旋转体而循环搬送的工件进行所期望的等离子体处理。本发明包括：真空容器；旋转体；通过旋转体的旋转而以圆周的搬送路径循环搬送工件的搬送部；筒部，在一端的开口朝向真空容器的内部的搬送路径的方向上延伸存在；窗部，将筒部的气体空间与外部之间加以划分；供给部，将工艺气体供给至气体空间；以及天线，通过施加电力而在气体空间的工艺气体中产生对经过搬送路径的工件进行等离子体处理的电感耦合等离子体，且具有调节部。

主权项

1.一种等离子体处理装置，其特征在于包括：真空容器，可将内部设为真空；搬送部，设置于所述真空容器内，具有搭载工件并旋转的旋转体，通过使所述旋转体旋转而以圆周的搬送路径循环搬送所述工件；筒部，在一端的开口朝向所述真空容器的内部的所述搬送路径的方向上延伸存在；窗部，设置于所述筒部，将所述筒部的内部与所述旋转体之间的导入工艺气体的气体空间和所述气体空间的外部之间加以划分；供给部，将所述工艺气体供给至所述气体空间；以及天线，配置于所述气体空间的外部且为所述窗部的附近，通过施加电力而在所述气体空间的工艺气体中产生电感耦合等离子体，所述电感耦合等离子体用来对经过所述搬送路径的工件进行等离子体处理；并且所述供给部自所述旋转体的表面经过进行所述等离子体处理的处理区域的时间不同的多个部位供给所述工艺气体，且具有调节部，所述调节部根据所述经过的时间来对所述供给部的多个部位的每单位时间的工艺气体的供给量个别地调节。