[发明专利]等离子体处理装置

摘要

本发明提供一种等离子体处理装置，可正确地调整气体空间与工件之间的间隔。包括：搬送部，在真空容器中具有旋转体，通过旋转体而以圆周的搬送路径循环搬送工件；筒部，在朝向真空容器的内部的搬送路径的方向上延伸存在；窗构件，将导入有工艺气体的气体空间与外部之间加以划分；以及天线，通过施加电力而在气体空间的工艺气体中产生对工件进行等离子体处理的电感耦合等离子体；并且筒部具有设置有开口且朝向旋转体的对向部，在对向部与旋转体之间具有隔离壁，所述隔离壁相对于对向部及旋转体而非接触且相对于真空容器而以固定不动的方式介隔存在，在隔离壁形成有与开口对向且调节等离子体处理的范围的调节孔。

主权项

1.一种等离子体处理装置，其特征在于包括：真空容器，可将内部设为真空；搬送部，设置于所述真空容器内，具有搭载工件并旋转的旋转体，通过使所述旋转体旋转而以圆周的搬送路径循环搬送所述工件；筒部，在所述筒部的一端的开口朝向所述真空容器的内部的所述搬送路径的方向上延伸存在；窗构件，设置于所述筒部，将所述筒部的内部与所述旋转体之间的导入有工艺气体的气体空间和外部之间加以划分；以及天线，配置于所述气体空间的外部且为所述窗构件的附近，通过施加电力而在所述气体空间的工艺气体中产生电感耦合等离子体，所述电感耦合等离子体是用来对经过所述搬送路径的工件进行等离子体处理；并且所述筒部具有设置有所述开口且朝向所述旋转体的对向部，在所述对向部与所述旋转体之间具有隔离壁，所述隔离壁相对于所述对向部及所述旋转体而非接触且相对于所述真空容器而以固定不动的方式介隔存在，在所述隔离壁形成有调节孔，所述调节孔设置于与所述开口对向的位置且调节所述等离子体处理的范围。