[发明专利]用高频波进行硅单晶生长过程控制的硅单晶炉在审

专利信息
申请号: 201810243378.2 申请日: 2018-03-23
公开(公告)号: CN108330531A 公开(公告)日: 2018-07-27
发明(设计)人: 黄永恩;贾建亮 申请(专利权)人: 廊坊赫尔劳斯太阳能光伏有限公司
主分类号: C30B15/00 分类号: C30B15/00;C30B29/06;C30B30/00
代理公司: 北京天奇智新知识产权代理有限公司 11340 代理人: 陆军
地址: 065000 河北省廊坊*** 国省代码: 河北;13
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本公开涉及一种用高频波进行硅单晶生长过程控制的,其特征在于包括炉体、以及坩埚,其中,所述坩埚位于炉体内,用于容纳原料,其中,所述炉体的侧壁和/或底部布置有馈波孔,用于与外部微波加热组件对接,以对坩埚内的原料进行加热,所述坩埚由石英钳锅、以及套在所述石英钳锅外的石墨钳锅组成,所述石墨坩埚的底部连接有坩埚轴,所述坩埚轴从所述炉体的底部贯穿,用于在单晶硅生长过程中上下移动和转动所述坩埚。本公开使用微波提供热能,充分利用波能的频率和波长特性,既能达到直接高效加热硅料又能绕开介质的吸能浪费,根据多晶料的特性做到高效、快速熔融,在单晶生长期间提供足够大的温场梯度,以获得最大生长速度,提高生产效率。
搜索关键词: 坩埚 炉体 硅单晶生长过程 高频波 坩埚轴 石英 加热 微波加热组件 单晶硅生长 波长特性 单晶生长 底部连接 硅单晶炉 快速熔融 期间提供 上下移动 生产效率 石墨坩埚 多晶料 石墨 波孔 波能 侧壁 硅料 绕开 套在 温场 吸能 转动 微波 容纳 体内 生长 贯穿 外部
【主权项】:
1.一种用高频波进行硅单晶生长过程控制的硅单晶炉,其特征在于包括炉体(1)、以及坩埚(2、3),其中,所述坩埚(2、3)位于炉体(1)内,用于容纳原料,其中,所述炉体(1)的侧壁和/或底部布置有馈波孔(7、9),用于与外部微波加热组件对接,以对坩埚(2、3)内的原料进行加热。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于廊坊赫尔劳斯太阳能光伏有限公司,未经廊坊赫尔劳斯太阳能光伏有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810243378.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top