[发明专利]台阶式薄膜波导电光调制器制作方法在审
| 申请号： | 201810251374.9 | 申请日： | 2018-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN108519688A | 公开（公告）日： | 2018-09-11 |
| 发明（设计）人： | 孙德贵;罗梦希;孙翔宇 | 申请（专利权）人： | 长春理工大学 |
| 主分类号： | G02F1/035 | 分类号： | G02F1/035;G02F1/03 |
| 代理公司： | 长春众邦菁华知识产权代理有限公司 22214 | 代理人： | 王丹阳 |
| 地址： | 130022 吉林*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 台阶式薄膜波导电光调制器制作方法属于光通信技术领域。现有技术制作的BaTiO3晶体薄膜脊形波导电光调制器的最大电光场重叠积分值也就是0.65而已。本发明之台阶式薄膜波导电光调制器制作方法包括以下步骤，在MgO晶体基底上制作BaTiO3晶体薄膜，膜厚为400～550nm；再将BaTiO3晶体薄膜两侧部分按某一深度刻蚀掉一层，BaTiO3晶体薄膜的中间部分成为BaTiO3薄膜窄条，膜厚为200～400nm；接着将BaTiO3晶体薄膜两侧与BaTiO3薄膜窄条侧壁相距某一距离的部分按某一深度刻蚀掉一层，然后在刚刚刻蚀掉的一层BaTiO3晶体薄膜的位置制作调制边电极，调制边电极的高度大于所述刚刚刻蚀掉的一层BaTiO3晶体薄膜的厚度，完成制作。所制作的电光调制器最大电光场重叠积分值能够达到0.85。 | ||
| 搜索关键词： | 晶体薄膜 电光调制器 制作 刻蚀 薄膜波导 台阶式 边电极 场重叠 电光 膜厚 窄条 薄膜 调制 光通信技术领域 脊形波导 技术制作 侧壁 基底 相距 | ||
【主权项】：
1.一种台阶式薄膜波导电光调制器制作方法，其特征在于，在MgO晶体基底(1)上制作BaTiO3晶体薄膜(5)，膜厚为400～550nm；再将BaTiO3晶体薄膜(5)两侧部分按某一深度刻蚀掉一层，BaTiO3晶体薄膜(5)的中间部分成为BaTiO3薄膜窄条(6)，膜厚为200～400nm；接着将BaTiO3晶体薄膜(5)两侧与BaTiO3薄膜窄条(6)侧壁相距某一距离的部分按某一深度刻蚀掉一层，然后在刚刚刻蚀掉的一层BaTiO3晶体薄膜的位置制作调制边电极(7)，调制边电极(7)的高度大于所述刚刚刻蚀掉的一层BaTiO3晶体薄膜的厚度，完成制作。
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