[发明专利]超疏水薄膜的制备方法在审
| 申请号： | 201810251453.X | 申请日： | 2018-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN108515000A | 公开（公告）日： | 2018-09-11 |
| 发明（设计）人： | 黎维勇;朱阳杰 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | B05D1/18 | 分类号： | B05D1/18;B05D5/00;B05D7/24;C23C28/04 |
| 代理公司： | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人： | 许志勇 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种超疏水薄膜的制备方法，包括：在衬底上形成多晶硅微纳结构阵列层；在所述多晶硅微纳结构阵列层上形成无机物微纳结构阵列层；对所述无机物微纳结构阵列层进行表面疏水化处理，制成超疏水薄膜。通过本发明，能够解决现有溶胶凝胶法制备超疏水薄膜制备步骤多、制备周期长且无法大面积生产的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 超疏水薄膜 微纳结构 阵列层 制备 无机物 多晶硅 溶胶凝胶法制 疏水化处理 制备周期 衬底 生产 | ||
【主权项】：
1.一种超疏水薄膜的制备方法，其特征在于，包括：在衬底上形成多晶硅微纳结构阵列层；在所述多晶硅微纳结构阵列层上形成无机物微纳结构阵列层；对所述无机物微纳结构阵列层进行表面疏水化处理，制成超疏水薄膜。
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