[发明专利]量子点层图案化方法及显示装置的制作方法

摘要

本发明提供了一种量子点层图案化方法及显示装置的制作方法，用于解决现有的量子点层的高分辨率图案化方法操作困难，难以实现量产的问题。其中所述量子点层图案化方法包括：在基板上制作量子点层，所述量子点层包括保留部分和待移除部分；在量子点层上压上具有多个凸起部的转印模板，使待移除部分与转印模板的多个凸起相结合；移除转印模板，使待移除部分随转印模板移除，保留部分保留在基板上。上述量子点层图案化方法应用于量子点发光二极管显示装置的子像素制作过程中，能够实现高分辨率子像素的制作。

主权项

1.一种量子点层图案化方法，其特征在于，所述量子点层图案化方法包括：在基板上制作量子点层，所述量子点层包括保留部分和待移除部分；在所述量子点层上压上具有多个凸起部的转印模板，使所述待移除部分与所述多个凸起部相结合；移除所述转印模板，使所述待移除部分随所述转印模板移除，所述保留部分保留在所述基板上。