[发明专利]双基准电容外观图像检测方法

摘要

本发明公开了一种双基准电容外观图像检测方法，包括以下步骤：第一步：注册电容各待测表示面的深浓度基准图像和浅浓度基准图像，设定检测瑕疵量上限值；第二步：待测样品放置在输送装置上，检测装置对电容表示面进行捕获待检图像；第三步：提取待检图像中比深浓度基准图像更深的部分作为瑕疵，检测出瑕疵量；第四步：提取所述待检图像中比浅浓度基准图像更浅的部分作为瑕疵，检测出瑕疵量；第五步：测出样品最大瑕疵量检测值，综合判定结果；第六步：根据判定结果，已检样品通过筛选装置分拣存放。采用样品图像与具有浓度差异的两个基准图像分别对比，明确分工，在不影响判别不良品的基础上，消除浓度差异带来的误判，有效提高检测准确率。

主权项

1.双基准电容外观图像检测方法，其特征在于，包括以下步骤：第一步：注册电容外壳待测表示面的基准图像，每个表示面分别注册深浓度基准图像和浅浓度基准图像，设定检测瑕疵量上限值；第二步：将待测样品放置在输送装置上，启动检测装置对电容表示面进行捕获待检图像；第三步：提取所述待检图像中比深浓度基准图像的颜色更深的部分，并将提取部分作为瑕疵，检测出瑕疵量；第四步：提取所述待检图像中比浅浓度基准图像的颜色更浅的部分，并将提取部分作为瑕疵，检测出瑕疵量；第五步：得出样品最大瑕疵量检测值，与瑕疵量上限值对比，并给出综合判定结果；第六步：根据判定结果，已检样品通过筛选装置分拣存放。