[发明专利]X射线分析装置有效

专利信息
申请号: 201810256705.8 申请日: 2018-03-27
公开(公告)号: CN108693202B 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 小川理绘 申请(专利权)人: 株式会社岛津制作所
主分类号: G01N23/20 分类号: G01N23/20;G01N23/20008;G01N23/20025
代理公司: 上海立群专利代理事务所(普通合伙) 31291 代理人: 杨楷;毛立群
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供一种能够高精度地进行分析的X射线分析装置。保持状态变更机构(10),若通过移动机构使X射线源以及检测器的相对位置变更时,则使它们连动,以试样表面S1沿焦点圆的圆周配置成圆弧状的方式,对试样保持部(2)所保持的试样S的保持状态进行变更。由此,即便焦点圆的大小发生变化,也能使试样表面S1沿着焦点圆的圆周。其结果是,在检测器中检测在试样表面S1衍射的X射线时,能够防止X射线强度产生误差,从而可以得到正确的衍射信息。
搜索关键词: 射线 分析 装置
【主权项】:
1.一种X射线分析装置,其特征在于,具备:试样保持部,保持试样;X射线源,朝向保持于所述试样保持部的试样照射X射线;检测器,接收在试样表面衍射并聚光于聚光位置的X射线;移动机构,使所述X射线源以及所述聚光位置的相对位置在以试样表面上的基准点为中心的同一基准圆上变化;保持状态变更机构,与因所述移动机构产生的所述X射线光源与所述聚光位置的相对位置的变化连动,以试样表面沿着通过所述X射线源以及所述聚光位置的焦点圆的圆周而配置成圆弧状的方式,对所述试样保持部所保持的试样的保持状态进行变更。
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