[发明专利]一种研磨抛光钕铁硼材料的方法在审
| 申请号： | 201810256802.7 | 申请日： | 2018-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN108247436A | 公开（公告）日： | 2018-07-06 |
| 发明（设计）人： | 夏原;李光 | 申请（专利权）人： | 包头中科泰磁涂层科技有限责任公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B31/06 |
| 代理公司： | 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 | 代理人： | 胡剑辉 |
| 地址： | 014000 内蒙古自治*** | 国省代码： | 内蒙古;15 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供了一种研磨抛光钕铁硼材料的方法，此方法是钕铁硼永磁材料真空镀膜产业化样品前处理的关键性技术，包括：将待处理的钕铁硼材料进行粗磨处理，使倒角达到0.5mm以上，同时去除表面油污、粉尘；对经粗磨处理后的所述钕铁硼材料进行精磨处理，去除所述钕铁硼材料在所述粗磨处理过程的产生的腐蚀以及精整表面；对经精磨处理后的所述钕铁硼材料进行上光处理，得到倒角达到0.5mm以上，表面粗糙度达到0.2μm以下，表面光亮、致密的研磨抛光钕铁硼材料。 | ||
| 搜索关键词： | 钕铁硼材料 研磨抛光 粗磨 倒角 精磨 去除 钕铁硼永磁材料 致密 表面粗糙度 关键性技术 样品前处理 表面光亮 表面油污 真空镀膜 产业化 精整 上光 粉尘 腐蚀 | ||
【主权项】：
1.一种研磨抛光钕铁硼材料的方法，应用于钕铁硼永磁材料真空镀膜产业化样品前处理，其特征在于，包括：对待处理的钕铁硼材料进行粗磨处理，倒角达到0.5以上，同时去除表面油污和粉尘；对经粗磨处理后的所述钕铁硼材料进行精磨处理，去除所述钕铁硼材料在所述粗磨处理过程的产生的腐蚀和磨料粉尘，同时对磁铁进行表面精整；对经精磨处理后的所述钕铁硼材料进行上光处理，得到倒角达到0.5以上，表面粗糙度达到0.2以下，表面光亮、致密的研磨抛光钕铁硼材料。
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