[发明专利]一种微电子机械清洗装置在审
| 申请号： | 201810261343.1 | 申请日： | 2018-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN108687016A | 公开（公告）日： | 2018-10-23 |
| 发明（设计）人： | 夏森;黄耀;陈大龙;芮望颐 | 申请（专利权）人： | 安徽尼古拉电子科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B3/08;B08B13/00;F26B5/08 |
| 代理公司： | 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 | 代理人： | 杨红梅 |
| 地址： | 241000 安徽省芜湖市高新技术产业开发*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种微电子机械清洗设备，包括清洗室、离心清洗单元、蒸汽发生单元和负压控制单元，所述清洗离心单元设置在清洗室(2)内部，待清洗的微电子元器件放置在离心清洗单元上，蒸汽发生单元向清洗室(2)输入蒸汽，所述负压控制单元调整清洗室(2)内容积控制清洗室(2)压强。微电子元器件的清洗有利于提高电子元件的质量和使用寿命。氢氟酸气体对元器件表面的氧化膜具有很强的清洗作用，在负压状态下进行清洗，可以有效的对元件的沟槽进行清洗。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗室 清洗 微电子元器件 蒸汽发生单元 微电子机械 负压控制 离心清洗 压强 氢氟酸气体 元器件表面 负压状态 离心单元 清洗设备 清洗装置 使用寿命 输入蒸汽 氧化膜 | ||
【主权项】：
1.一种微电子机械清洗设备，其特征在于,包括清洗室、离心清洗单元、蒸汽发生单元和负压控制单元，所述清洗离心单元设置在清洗室(2)内部，待清洗的微电子元器件放置在离心清洗单元上，蒸汽发生单元向清洗室(2)输入蒸汽，所述负压控制单元调整清洗室(2)内容积控制清洗室(2)压强。
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