[发明专利]涂抹构件的清洗方法和涂抹标本制作装置有效
申请号: | 201810262995.7 | 申请日: | 2018-03-28 |
公开(公告)号: | CN108687087B | 公开(公告)日: | 2022-05-13 |
发明(设计)人: | 山崎充生;中西利志;福岛政比古;古贺裕之 | 申请(专利权)人: | 希森美康株式会社 |
主分类号: | B08B11/04 | 分类号: | B08B11/04;B08B3/12;B08B3/08;G01N1/28;G01N1/31 |
代理公司: | 北京市安伦律师事务所 11339 | 代理人: | 杨永波;韩景漫 |
地址: | 日本兵库县神户市*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种涂抹构件的清洗方法,该涂抹构件的清洗方法即使在涂抹次数增加了的情况下也使涂抹状态保持为所希望的状态,同时为防止用户作操作负担增大。该涂抹构件的清洗方法中,向载玻片10上滴下清洗剂11,让涂抹构件42与载玻片10上的清洗剂11接触,清洗涂抹构件42。 | ||
搜索关键词: | 涂抹 构件 清洗 方法 标本 制作 装置 | ||
【主权项】:
1.一种涂抹构件的清洗方法,其特征在于:向载玻片上滴下清洗剂;使所述涂抹构件与载玻片上的所述清洗剂接触,清洗所述涂抹构件。
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