[发明专利]用于暴露到极紫外光的护膜以及光刻系统

摘要

根据示例性实施例，提供一种用于暴露到极紫外光(extreme ultraviolet light，EUVL)的护膜以及一种光刻系统，所述护膜包括护膜膜片以及贴合到所述护膜膜片的框架，其中所述护膜膜片包括碳系主层以及硼系增强层，所述碳系主层具有彼此相对的第一表面与第二表面，所述硼系增强层覆盖选自所述第一表面与所述第二表面中的至少一个表面。根据示例性实施例的护膜可在极紫外光曝光环境中使用较长的时间段。

主权项

1.一种用于极紫外光曝光的护膜，其特征在于，所述护膜包括：护膜膜片，包括碳系主层以及硼系增强层，所述碳系主层具有第一表面及与所述第一表面相对的第二表面，所述硼系增强层覆盖所述第一表面与所述第二表面中的至少一者；以及框架，贴合到所述护膜膜片。