[发明专利]图像传感器及其形成方法

摘要

一种图像传感器及其形成方法，所述形成方法包括：提供半导体衬底，所述半导体衬底的表面形成有第一介质层；对所述第一介质层进行刻蚀，以形成滤镜凹槽，各个滤镜凹槽之间残留的第一介质层呈网格状排列；形成第一介质薄膜，所述第一介质薄膜覆盖所述残留的第一介质层，所述第一介质薄膜的材料不同于所述第一介质层；在所述滤镜凹槽内形成滤镜；去除所述残留的第一介质层的顶部表面的第一介质薄膜以及所述残留的第一介质层，以形成网格状排列的沟槽；形成第二介质薄膜，所述第二介质薄膜封口所述沟槽的开口，以形成气隙。本发明方案可以在防止光学串扰的同时，降低生产成本，避免形成金属污染，减少入射光的损耗，提高图像传感器的光敏感性。

主权项

1.一种图像传感器的形成方法，其特征在于，包括以下步骤：提供半导体衬底，所述半导体衬底的表面形成有第一介质层；对所述第一介质层进行刻蚀，以形成滤镜凹槽，各个滤镜凹槽之间残留的第一介质层呈网格状排列；形成第一介质薄膜，所述第一介质薄膜覆盖所述残留的第一介质层，所述第一介质薄膜的材料不同于所述第一介质层；在所述滤镜凹槽内形成滤镜；去除所述残留的第一介质层的顶部表面的第一介质薄膜以及所述残留的第一介质层，以形成网格状排列的沟槽；形成第二介质薄膜，所述第二介质薄膜封口所述沟槽的开口，以形成气隙。