[发明专利]光模块有效

专利信息
申请号: 201810271414.6 申请日: 2018-03-29
公开(公告)号: CN108490553B 公开(公告)日: 2020-04-07
发明(设计)人: 隋少帅;高凤 申请(专利权)人: 青岛海信宽带多媒体技术有限公司
主分类号: G02B6/42 分类号: G02B6/42;G02B6/122
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 乔慧;刘芳
地址: 266555 山东省青*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明提供一种光模块。该光模块包括:硅光芯片、激光器和透镜组件;其中,所述硅光芯片包括依次层叠设置的硅衬底、掩埋氧化硅层、光波导和覆盖层;所述硅光芯片具有刻蚀槽;所述刻蚀槽为通过刻蚀所述覆盖层、所述掩埋氧化硅层和所述硅衬底形成的;所述硅光芯片具有透镜凹槽;所述透镜凹槽为通过刻蚀所述刻蚀槽形成的;所述激光器设置在所述刻蚀槽内;所述透镜组件设置在所述透镜凹槽内,所述透镜组件位于所述激光器和所述光波导之间,用于将所述激光器发射的光进行光束整形后发射至所述光波导。本发明实施例的光模块耦合效率较高,由于激光器和透镜组件设置在位于硅光芯片的硅衬底上的刻蚀槽内,而且体积较小,耦合容差较高。
搜索关键词: 模块
【主权项】:
1.一种光模块,其特征在于,包括:硅光芯片、激光器和透镜组件;其中,所述硅光芯片包括依次层叠设置的硅衬底、掩埋氧化硅层、光波导和覆盖层;所述硅光芯片具有刻蚀槽;所述刻蚀槽为通过刻蚀所述覆盖层、所述掩埋氧化硅层和所述硅衬底形成的;所述硅光芯片具有透镜凹槽;所述透镜凹槽为通过刻蚀所述刻蚀槽形成的;所述激光器设置在所述刻蚀槽内;所述透镜组件设置在所述透镜凹槽内,所述透镜组件位于所述激光器和所述光波导之间,用于将所述激光器发射的光进行光束整形后发射至所述光波导。
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