[发明专利]一种铜箔上的连续快速制备石墨烯薄膜的装置与方法在审
申请号: | 201810271662.0 | 申请日: | 2018-03-29 |
公开(公告)号: | CN108516537A | 公开(公告)日: | 2018-09-11 |
发明(设计)人: | 任旭东;钱磊;马服辉;马文迅;王日红;王冕 | 申请(专利权)人: | 江苏大学 |
主分类号: | C01B32/184 | 分类号: | C01B32/184;C01B32/194 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 212013 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种铜箔上的连续快速制备石墨烯薄膜的方法与装置,所述铜箔上的连续快速制备石墨烯薄膜装置主要包括激光发生系统和石墨烯薄膜收集系统。高功率脉冲激光辐射于石墨悬浮液,使靶材表面瞬间产生高温高压等离子体,受周围液体的约束作用,等离子体无法自由扩散,随着反应区域的自调节热传导,靶材表面形成连续的气态碳不断扩大等离子体羽区范围,等离子体定向局域膨胀发射,并在衬底上沉积而形成石墨烯薄膜。本发明的技术方案可以提高石墨烯薄膜的制备效率。 | ||
搜索关键词: | 石墨烯薄膜 快速制备 铜箔 等离子体 靶材表面 高温高压等离子体 激光发生系统 等离子体羽 高功率脉冲 石墨悬浮液 反应区域 激光辐射 收集系统 约束作用 气态碳 热传导 衬底 沉积 制备 膨胀 扩散 发射 自由 | ||
【主权项】:
1.一种铜箔上的连续快速制备石墨烯薄膜的装置,其特征在于,包括激光发生系统和位于激光发生系统下方的反应容器(15),所述反应容器(15)左端设有丝杠螺母装置(6),所述丝杠螺母装置(6)的输出端安装有亚克力板(7),所述亚克力板(7)上安装有铜箔(12),所述亚克力板(7)及铜箔(12)均位于所述反映容器(15)内,所述丝杠螺母装置(6)在电机(20)的带动下可以实现将所述所述亚克力板(7)在所述反映容器(15)内竖直方向移动;所述反应容器(15)中放有石墨(13)悬浮液和磁力搅拌仪(14),所述反应容器(15)中装有去离子水;所述反应容器(15)上方固定安装有激光加工头(11),所述激光发生系统发出的激光通过全反镜(5)反射给所述激光加工头(11)。
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