[发明专利]一种微纳米颗粒的快速原子层沉积设备有效
申请号: | 201810274604.3 | 申请日: | 2018-03-30 |
公开(公告)号: | CN108359960B | 公开(公告)日: | 2020-02-14 |
发明(设计)人: | 陈蓉;曲锴;单斌;刘潇;李嘉伟;张晶;曹坤 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;B82Y40/00;B82Y30/00 |
代理公司: | 42201 华中科技大学专利中心 | 代理人: | 张彩锦;曹葆青 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明属于原子层沉积反应领域,并公开了一种微纳米颗粒的快速原子层沉积设备。设备包括进料装置、料槽、起振装置和反应装置,料槽一端的上方设置有进料装置,另外一端的上方设置有反应装置,起振装置与料槽相连,使得从进料装置进入料槽中的微纳米颗粒做向前的抛掷运动直至到达反应装置的下方;反应装置包括有多个并行排列的反应喷头和设置在喷头侧面的加热片,在多个反应喷头中通入反应气体,采用惰性气体隔开,用于通入反应气体使得料槽中的微纳米颗粒发生沉积反应,微纳米颗粒到达反应装置下方后与从反应喷头中喷入的气体发生反应,以此完成沉积过程。通过本发明,缩短反应时间,提高反应效率,本设备结构简单,便于使用和维护。 | ||
搜索关键词: | 微纳米颗粒 反应装置 料槽 反应喷头 进料装置 沉积设备 反应气体 快速原子 起振装置 沉积 原子层沉积反应 喷头 并行排列 惰性气体 反应效率 抛掷运动 气体发生 设备结构 加热片 隔开 喷入 侧面 维护 | ||
【主权项】:
1.一种微纳米颗粒的快速原子层沉积设备,该设备包括进料装置(2)、料槽(3)、起振装置(7)和反应装置(5),其特征在于,/n所述料槽(3)一端的上方设置有所述进料装置(2),另外一端的上方设置有所述反应装置(5),所述起振装置与该料槽相连,该起振装置依靠振动电机的连续转动或电磁铁的不断吸合为待处理微纳米颗粒提供一个斜向上的高频振动力,一方面使得从所述进料装置进入所述料槽中的待处理微纳米颗粒做向前的抛掷运动直至到达所述反应装置的下方,另一方面使得待处理微纳米颗粒不断被抛起,当该处理微纳米颗粒进入所述反应装置中后,增大其与反应气体的接触,使得反应气体更加均匀的吸附在其表面,提高成膜质量;/n所述反应装置(5)包括有多个并行排列的反应喷头和设置在喷头侧面的加热片,在多个反应喷头中通入反应气体和惰性气体,其中,惰性气体介于两种反应气体之间使得两种反应气体隔离,同时也使反应过程与空气隔离,所述反应喷头包括进气管部分和出气口部分,所述进气管部分呈管状,所述出气口部分呈漏斗状,其口径小的一端与所述进气管部分相连,所述加热片用于加热所述反应喷头中的气体,待处理微纳米颗粒到达反应装置下方后与从反应喷头中喷入的气体发生反应,以此完成沉积过程。/n
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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