[发明专利]一种金属掩膜、金属掩膜版及其制造方法在审
| 申请号： | 201810276313.8 | 申请日： | 2018-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN108411254A | 公开（公告）日： | 2018-08-17 |
| 发明（设计）人： | 张健;黄俊杰;林治明;王震 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/04;B23K31/00 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 周娟 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种金属掩膜、金属掩膜版及其制造方法，涉及蒸镀技术领域，用于提高显示面板的良率。所述金属掩膜包括掩膜主体部和位于掩膜主体部的相对两侧的两个连接部，连接部包括位于掩膜主体部上的本体部和位于本体部上且背向掩膜主体部延伸的单级台阶部，单级台阶部包括平行于金属掩膜的台阶面。多个金属掩膜构成金属掩膜版时，相邻的两个金属掩膜之间可以通过连接部实现重叠连接，相邻的两个金属掩膜之间不存在间隙，因而无需设置遮蔽条来遮蔽相邻的两个金属掩膜之间的间隙，金属掩膜不会因为遮蔽条的变形而受到挤压，改善金属掩膜的平展度，提高显示面板的良率。本发明用于形成膜层。 | ||
| 搜索关键词： | 金属掩膜 掩膜主体 遮蔽 显示面板 台阶部 单级 良率 相对两侧 重叠连接 平展度 台阶面 膜层 蒸镀 平行 制造 变形 挤压 延伸 | ||
【主权项】：
1.一种金属掩膜，其特征在于，所述金属掩膜包括掩膜主体部和位于所述掩膜主体部的相对两侧的两个连接部，所述连接部包括位于所述掩膜主体部上的本体部和位于所述本体部上且背向所述掩膜主体部延伸的单级台阶部，所述单级台阶部包括平行于所述金属掩膜的台阶面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，未经京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810276313.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
