[发明专利]石墨烯的表面修饰方法在审
| 申请号： | 201810276330.1 | 申请日： | 2018-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN108423670A | 公开（公告）日： | 2018-08-21 |
| 发明（设计）人： | 邓飞 | 申请（专利权）人： | 深圳烯湾科技有限公司 |
| 主分类号： | C01B32/194 | 分类号： | C01B32/194 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 生启 |
| 地址： | 518172 广东省深圳市龙*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种石墨烯的表面修饰方法。上述石墨烯的表面修饰方法，通过将石墨烯和高分子聚合物置于高能紫外光下进行高能紫外光处理，并设定高能紫外光的照射功率为15mW～35mW，设定高能紫外光为照射波长λ为150nm～350nm的单色窄带光，从而使得高分子聚合物能够接枝到石墨烯的表面；上述石墨烯的表面修饰方法，能够实现对石墨烯的表面处理，且不需要将石墨烯分散在溶剂中避免了使用有毒试剂而造成人体和环境的伤害，同时，上述方法只需进行高能紫外光处理20min～50min即可完成石墨烯的表面修饰，反应时间短，能耗低且效率高。 | ||
| 搜索关键词： | 石墨烯 高能紫外光 表面修饰 高分子聚合物 反应时间短 照射波长 照射功率 窄带光 接枝 溶剂 能耗 伤害 | ||
【主权项】：
1.一种石墨烯的表面修饰方法，其特征在于，包括以下步骤：在第一基底上沉积石墨烯；在第二基底上沉积高分子聚合物，所述高分子聚合物选自碳链高聚物；将所述第一基底与所述第二基底放置于同一反应腔中；及在保护性气体氛围下，对所述第一基底及所述第二基底进行高能紫外光处理，所述高能紫外光的照射功率为15mW～35mW，所述高能紫外光为照射波长λ为150nm～350nm的单色窄带光。
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