[发明专利]运动控制装置、运动控制方法、掩模台系统和光刻机有效
申请号: | 201810277645.8 | 申请日: | 2018-03-30 |
公开(公告)号: | CN110320756B | 公开(公告)日: | 2020-09-22 |
发明(设计)人: | 卢彧文;陈超;廖飞红 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G05D3/12 |
代理公司: | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人: | 王宏婧 |
地址: | 201203 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种运动控制装置、运动控制方法、掩模台系统和光刻机,用于控制第一运动模块和第二运动模块同步移动,并使所述第一运动模块和所述第二运动模块的位置与运动轨迹信号满足预设要求,其中,所述第一运动模块和所述第二运动模块分别设置在第一安装框架和第二安装框架上,包括第一位置反馈单元、第一轨迹加速度前馈单元、第一框架加速度前馈单元、第一加法运算模块、第二位置反馈单元、第二轨迹加速度前馈单元、第二框架加速度前馈单元、第二加法运算模块。本发明可改善第一运动模块和第二运动模块的运动精度,可减少所述第一运动模块和所述第二运动模块由于运动不同步导致的相互干扰,进而改善运动控制装置的控制精度。 | ||
搜索关键词: | 运动 控制 装置 方法 掩模台 系统 光刻 | ||
【主权项】:
1.一种运动控制装置,用于控制第一运动模块和第二运动模块同步移动,并使所述第一运动模块和所述第二运动模块的位置与运动轨迹信号满足预设要求,其中,所述第一运动模块和所述第二运动模块分别设置在第一安装框架和第二安装框架上,其特征在于,所述运动控制装置包括:第一位置反馈单元,用于进行使所述第一运动模块的位置与所述运动轨迹信号满足预设要求的反馈控制;第一轨迹加速度前馈单元,用于进行补偿所述第一运动模块的位置控制的延迟的前馈控制;第一框架加速度前馈单元,用于进行补偿所述第一安装框架的振动对所述第一运动模块的位置控制的扰动的前馈控制;第一加法运算模块,用于叠加所述第一位置反馈单元、所述第一轨迹加速度前馈单元和所述第一框架加速度前馈单元输出的信息,并输出用于控制所述第一运动模块运动的信号;第二位置反馈单元,用于进行使所述第二运动模块的位置与所述运动轨迹信号满足预设要求的反馈控制;第二轨迹加速度前馈单元,用于进行补偿所述第二运动模块的位置控制的延迟的前馈控制;第二框架加速度前馈单元,用于进行补偿所述第二安装框架的振动对所述第二粗运动模块的位置控制的扰动的前馈控制;以及第二加法运算模块,用于叠加所述第二位置反馈单元、所述第二轨迹加速度前馈单元和所述第二框架加速度前馈单元输出的信息,并输出用于控制所述第二运动模块运动的信号。
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