[发明专利]一种嵌入式电容转接板封装结构及制造方法有效
申请号: | 201810283286.7 | 申请日: | 2018-04-02 |
公开(公告)号: | CN108461483B | 公开(公告)日: | 2020-03-17 |
发明(设计)人: | 徐健 | 申请(专利权)人: | 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 |
主分类号: | H01L23/64 | 分类号: | H01L23/64;H01L21/768;H01L23/498;H01L23/31;H01L21/60 |
代理公司: | 上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31313 | 代理人: | 张东梅 |
地址: | 214028 江苏省无锡市新区*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种嵌入式电容转接板封装结构,包括:硅转接板;设置在所述硅转接板第一面的第一电容电极;封装基板;设置在所述封装基板第一面的第二电容电极,所述第一电容电极与所述第二电容电极平行对齐;以及位于所述第一电容电极与所述第二电容电极之间的电容介质层,所述电容介质层与所述第一电容电极、第二电容电极一起构成完整的电容结构。 | ||
搜索关键词: | 一种 嵌入式 电容 转接 封装 结构 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种嵌入式电容转接板封装结构,包括:硅转接板;设置在所述硅转接板第一面的第一电容电极;封装基板;设置在所述封装基板第一面的第二电容电极,所述第一电容电极与所述第二电容电极平行对齐;以及位于所述第一电容电极与所述第二电容电极之间的电容介质层,所述电容介质层与所述第一电容电极、第二电容电极一起构成完整的电容结构。
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