[发明专利]一种光罩及接触孔的制作方法

摘要

本发明提供一种光罩和接触孔的制作方法，其中，光罩包括：与待制作的接触孔对应的圆形透光孔；围绕圆形透光孔且与其同心的圆环形狭缝区，圆环形狭缝区用于在通过PFA工艺形成的平坦层上形成接触孔的孔壁，并分布有至少一个遮光区和至少一个透光区；接触孔的制作方法包括：形成自下而上依次叠层的金属层、绝缘层和钝化层；在所述钝化层上通过PFA工艺形成平坦层；采用所述的光罩对所述平坦层进行光刻，形成第一接触孔；以所述平坦层为自对准光罩，采用干蚀刻工艺对所述绝缘层和钝化层进行蚀刻，在所述第一接触孔下方对应形成第二接触孔，所述金属层至少部分地暴露于第一接触孔和第二接触孔。本发明通过对光罩的创新设计，可以提高蚀刻速率。

主权项

1.一种光罩，其特征在于，包括：与待制作的接触孔对应的圆形透光孔；围绕所述圆形透光孔且与其同心的圆环形狭缝区，所述圆环形狭缝区用于在通过PFA工艺形成的平坦层上形成所述接触孔的孔壁，并分布有至少一个遮光区和至少一个透光区。