[发明专利]一种跨尺度微纳制造方法在审
| 申请号： | 201810288939.0 | 申请日： | 2018-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN108549198A | 公开（公告）日： | 2018-09-18 |
| 发明（设计）人： | 彭博方;冯玉林;方绚莱;贺晓宁 | 申请（专利权）人： | 深圳摩方新材科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/22;B29C64/129;B33Y10/00 |
| 代理公司： | 深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙) 44248 | 代理人： | 胡玉 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市龙华新区观澜*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种跨尺度微纳制造方法，属于光刻或3D打印技术领域，将空间光调制器的图案投影在样品面上，并移动所述样品面，使投影后的图案在样品面的不同位置上曝光，进而获得所需的目标图案。本发明通过控制样品面的移动和空间光调制器的图案，实现跨尺度的光刻以及3D打印，解决了曝光制造精度与制造面积（体积）大小的矛盾，可以实现高精度大尺度的微纳米加功能制造。 | ||
| 搜索关键词： | 跨尺度 制造 空间光调制器 光刻 打印 图案 曝光 目标图案 图案投影 大尺度 微纳米 样品面 移动 投影 矛盾 | ||
【主权项】：
1.一种跨尺度微纳制造方法，其特征在于，将空间光调制器的图案投影在样品面上，并移动所述样品面，使投影后的图案在样品面的不同位置上曝光，进而获得所需的目标图案。
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