[发明专利]一种基底边缘保护装置、光刻设备及保护方法有效

专利信息
申请号: 201810293658.4 申请日: 2018-03-30
公开(公告)号: CN110320758B 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: 曹文;郎东春 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 孟金喆
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种基底边缘保护装置、光刻设备及保护方法。其中,基底边缘保护装置包括底座,设置在底座工作侧边缘的抓取部件,用于抓取和固定基底边缘保护环,设置在底座工作侧翘曲处理机构,翘曲处理机构的工作面上有多个吹气孔,以及与吹气孔连通的进气孔,通过吹气孔吹气以对基底进行整平。本发明实施例提供的基底边缘保护装置,在底座工作侧设置翘曲处理机构,通过翘曲处理机构向工件台上的翘曲基底吹正压气体,将翘曲基底整平,使基底完全吸附在吸盘上,实现了对大翘曲量基底的整平,提高了基底曝光质量和良率;此外,基底整形和基底边缘保护环的放置都可以通过该基底边缘保护装置实现,简化了曝光流程,从而提高了生产效率。
搜索关键词: 一种 基底 边缘 保护装置 光刻 设备 保护 方法
【主权项】:
1.一种基底边缘保护装置,其特征在于,包括:底座;设置在所述底座工作侧边缘的抓取部件,所述抓取部件用于抓取和固定基底边缘保护环;设置在底座工作侧翘曲处理机构,所述翘曲处理机构包括形成在工作面上的多个吹气孔,以及与所述吹气孔联连通的进气孔,所述翘曲处理机构用于通过吹气孔吹气以对基底进行整平。
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