[发明专利]一种确定光学装置畸变量、畸变校正的方法及设备有效
| 申请号： | 201810294620.9 | 申请日： | 2018-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN108761777B | 公开（公告）日： | 2021-04-20 |
| 发明（设计）人： | 刘向阳;武乃福;唐小军 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/00 | 分类号： | G02B27/00;G06T5/00 |
| 代理公司： | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人： | 付生辉 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种确定光学装置畸变量的方法，包括：基于一张定标图像生成多张具有不同校正量的预畸变图像；将每张所述预畸变图像分别输入所述光学装置中进行显示，得到与多张预畸变图像一一对应的多张显示图像；将每张所述显示图像与所述定标图像分别比较，得到与所述定标图像一致的显示图像，并将该显示图像对应的所述预畸变图像的校正量数值确定为所述显示装置的畸变量数值，本发明还公开了一种校正光学装置畸变的方法以及一种显示设备，本发明通过生成多张具有不同校正量的预畸变图像确定光学装置的畸变量，对于对输入图像畸变影响较小的光学装置，省略畸变校正环节，从而提高显示效率，减少资源浪费，降低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 确定 光学 装置 畸变 校正 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种确定光学装置畸变量的方法，其特征在于，包括：基于一张定标图像生成多张具有不同校正量的预畸变图像；将每张所述预畸变图像分别输入所述光学装置中进行显示，得到与多张预畸变图像一一对应的多张显示图像；将每张所述显示图像与所述定标图像分别比较，得到与所述定标图像一致的显示图像，并将该显示图像对应的所述预畸变图像的校正量数值确定为所述显示装置的畸变量数值。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810294620.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
