[发明专利]一种用于输入输出端口和电源钳位的SCR器件有效

专利信息
申请号: 201810314684.0 申请日: 2018-04-10
公开(公告)号: CN108538831B 公开(公告)日: 2020-10-23
发明(设计)人: 刘继芝;何刚;刘志伟;赵建明 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 甘茂
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明属于集成电路的静电放电(ESD:Electrostatic Discharge)保护领域,具体提供一种用于输入输出端口和电源钳位的SCR器件,用以同时实现保护输入输出端口和电源钳位;本发明SCR器件包括1个主泄放器件和1个辅助控制器件,其中,辅助控制器件作为控制主泄放器件的开关,辅助控制器件在正常工作时使主泄放器件关断,不影响被保护电路的正常工作;在ESD事件到来时,辅助控制器件使主泄放器件导通,泄放ESD电流;同时,通过设计内部的RC通路的参数,能够降低主泄放器件的触发电压,且该触发电压可调制。
搜索关键词: 一种 用于 输入输出 端口 电源 scr 器件
【主权项】:
1.一种用于输入输出端口和电源钳位的SCR器件,包括1个主泄放器件和1个辅助控制器件;其中,所述的主泄放器件包括第一种导电类型硅衬底、硅衬底上形成的相邻接的第二种导电类型阱区A和第一种导电类型阱区A;所述第二种导电类型阱区A内设有均与SCR阳极相连的第二种导电类型重掺杂区A和第一种导电类型重掺杂区A;所述第一种导电类型阱区A内设有均与SCR阴极相连的第二种导电类型重掺杂区B和第一种导电类型重掺杂区B,且第二种导电类型阱区A的硅表面上无源区域或有源区域设有覆盖多晶硅层栅氧化层区A;所述第二种导电类型阱区A和第一种导电类型阱区A之间跨接一个第二种导电类型重掺杂区C,所述第二种导电类型重掺杂区C和第二种导电类型重掺杂区B之间的硅表面上设有栅氧化层区B;其特征在于,所述的辅助控制器件包括第一种导电类型硅衬底、硅衬底上形成的第二种导电类型阱区B;所述第二种导电类型阱区B内依次设有第一种导电类型重掺杂区C、第一种导电类型重掺杂区D和第二种导电类型重掺杂区D;所述第一种导电类型重掺杂区C与第一种导电类型重掺杂区D之间设有栅氧化层区C,所述栅氧化层区C上覆盖有多晶硅层、并与被保护电路的电源VDD相连;所述第一种导电类型重掺杂区D和第二种导电类型重掺杂区D相连作为辅助控制器件的阴极,所述栅氧化层A上覆盖有多晶硅层、且与辅助控制器件的阴极相连;所述第一种导电类型重掺杂区C为辅助控制器件的阳极,所述栅氧化层B上覆盖有多晶硅层、且与辅助控制器件的阳极相连。
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