[发明专利]一种阵列基板及制造该阵列基板的掩膜板有效

专利信息
申请号: 201810319342.8 申请日: 2018-04-11
公开(公告)号: CN108520882B 公开(公告)日: 2021-03-23
发明(设计)人: 刘司洋;徐向阳 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L29/786;H01L21/77;G03F1/38;G02F1/1368
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种阵列基板及其制造用的掩膜板,所述掩膜板包括用于形成薄膜晶体管中源极和漏极的源极图块和漏极图块;所述源极图块与所述阵列基板的源极相对应,所述漏极图块与所述阵列基板的漏极相对应;其中,所述源极图块和/或所述漏极图块包括位于其边缘的凸起状补偿图块。
搜索关键词: 一种 阵列 制造 掩膜板
【主权项】:
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:基板;漏极,制备于所述基板上,所述漏极的纵截面的形状为马蹄状,所述纵截面为平行于所述基板的截面;源极,所述源极对应所述漏极的凹部制备于所述基板上,且与所述漏极绝缘设置;其中,所述漏极与所述源极的线宽均小于5um,且所述漏极以及所述源极各处线宽均保持均一。
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