[发明专利]叔胺光敏剂、其制备方法、包含其的感光性树脂组合物及感光性树脂组合物的应用

摘要

本发明公开了一种叔胺光敏剂、其制备方法、包含其的感光性树脂组合物及感光性树脂组合物的应用。该叔胺光敏剂至少含有一种通式(I)所示的叔胺衍生物；本发明的叔胺光敏剂对波长350～410nm的光源灵敏性高，采用其制备的感光性树脂组合物对使用任意一种单一波长光源进行描绘时都可以得到充分的分辨率、稳定的生产量，且这种叔胺光敏剂树脂相容性好，添加该叔胺光敏剂的感光性树脂组合物干燥后不会产生析出物，可采用直接描绘曝光法来制备光致抗蚀膜、抗蚀图案及印刷电路板。

主权项

1.一种叔胺光敏剂，其特征在于，所述叔胺光敏剂至少含有一种通式(I)所示的叔胺衍生物；其中，A选自下列任一种基团：其中*表示链接位；R₁选自C₁‑C₁₀的直链或支链烷基，任选地，其中的‑CH₂‑被氧、硫或亚苯基所取代；R₂和R₃各自独立地表示氢、C₁‑C₁₀的直链或支链烷基，任选地，其中的‑CH₂‑被氧、硫或亚苯基所取代；R₄选自‑H、C₁‑C₁₀的直链或支链烷基、或C₃‑C₁₀的环烷基；R₅选自C₁‑C₁₀的直链或支链烷基、C₃‑C₁₀的环烷基、C₄‑C₁₀的环烷基烷基或C₄‑C₁₀的烷基环烷基、或R₆选自‑H、C₁‑C₁₀的直链或支链的烷基、C₃‑C₁₀的环烷基、C₄‑C₁₀的烷基环烷基或环烷基烷基、或C₂‑C₁₀的链烯基，任选地，这些基团中的‑CH₂‑可被‑O‑取代。