[发明专利]一种基底边缘保护环单元、光刻设备及保护方法有效

专利信息
申请号: 201810327823.3 申请日: 2018-04-12
公开(公告)号: CN110376847B 公开(公告)日: 2021-01-01
发明(设计)人: 蔡晨;王鑫鑫 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 孟金喆
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种基底边缘保护环单元、光刻设备及保护方法。基底边缘保护环单元包括保护环和保护环托盘;所述保护环上设有第一固定部件,所述保护环托盘上设有与所述第一固定部件对应的第二固定部件,当所述保护环置于所述保护环托盘上时,所述第一固定部件与所述第二固定部件配合,将所述保护环固定在所述保护环托盘上。本发明实施例提供的基底边缘保护环单元,对保护环进行位置固定,避免保护环在传输过程中发生位置偏移,保证保护环抓取单元能够精准的抓取保护环,进而保证了放环精度;同时,由于无需手工进行位置对准,提高了放环效率和设备产率。
搜索关键词: 一种 基底 边缘 保护环 单元 光刻 设备 保护 方法
【主权项】:
1.一种基底边缘保护环单元,其特征在于,包括:保护环;保护环托盘;所述保护环上设有第一固定部件,所述保护环托盘上设有与所述第一固定部件对应的第二固定部件,当所述保护环置于所述保护环托盘上时,所述第一固定部件与所述第二固定部件配合,将所述保护环固定在所述保护环托盘上。
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