[发明专利]含闭环噻吩马来酰亚胺的聚合物制备及其在电存储器件上应用在审

专利信息
申请号: 201810331997.7 申请日: 2018-04-13
公开(公告)号: CN108774311A 公开(公告)日: 2018-11-09
发明(设计)人: 吕玮;凌启淡;王文;林正欢;梅晓飞;林型炽 申请(专利权)人: 福建师范大学
主分类号: C08G61/12 分类号: C08G61/12;C08L65/00;C08J5/18;H01L51/05;H01L51/10;H01L51/30
代理公司: 福州君诚知识产权代理有限公司 35211 代理人: 戴雨君
地址: 350300 福建省福州市*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明涉及一种含闭环噻吩马来酰亚胺结构的聚合物制备及其在电存储器件上应用。本发明采用suzuki偶联反应将二噻吩马来酰亚胺单体和芴单体或咔唑单体通过偶联反应合成得到聚合物;经氯苯溶解后旋涂在ITO玻璃基底上成聚合物固体薄膜,再在聚合物固体薄膜上蒸镀金属银或铝;利用特定光源进行照射,开环噻吩马来酰亚胺基团转化为闭环噻吩马来酰亚胺基团,得到有机电存储器件。所述的特定光源,是指紫外光光源、可见光光源或太阳光模拟器光源。本发明利用噻吩马来酰亚胺单元光照下发声闭环反应,表现出优良的电存储性能。电存储器件具有开关比高、稳定性好、保留时间长的FLASH型非易失性电存储行为。
搜索关键词: 闭环 电存储器件 马来酰亚胺基团 聚合物固体 聚合物制备 马来酰亚胺 电存储 薄膜 光源 太阳光模拟器光源 马来酰亚胺单体 马来酰亚胺单元 有机电存储器件 可见光光源 紫外光光源 闭环反应 非易失性 偶联反应 咔唑单体 聚合物 金属银 开关比 芴单体 基底 开环 氯苯 旋涂 蒸镀 光照 应用 溶解 照射 合成 保留 转化 表现
【主权项】:
1.一种含闭环噻吩马来酰亚胺的聚合物制备及其在电存储器件上应用,其特征是:1)采用suzuki偶联反应将等摩尔量的开环噻吩马来酰亚胺单体和芴单体或咔唑单体通过偶联反应合成得到D‑A型含开环噻吩马来酰亚胺基团的聚合物;2)取氯苯溶剂,将上述聚合物配置成D‑A型含开环噻吩马来酰亚胺基团的聚合物溶液;3)述方法制备的聚合物溶液用匀胶机在洁净的ITO玻璃基底上旋涂成紫色的聚合物固体薄膜; 4)通过真空蒸镀法,在旋涂得到的紫色的聚合物固体薄膜上蒸镀金属银或铝电极,利用特定光源进行照射,此时紫色的聚合物固体薄膜转变为无色,聚合物固体薄膜结构中的开环噻吩马来酰亚胺基团转化为闭环噻吩马来酰亚胺基团,最后得到有机电存储器件。
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