[发明专利]红光模组密封结构及其实时密封性检测系统在审
| 申请号： | 201810341225.1 | 申请日： | 2018-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN110388626A | 公开（公告）日： | 2019-10-29 |
| 发明（设计）人： | 谢颂婷;易琪;程文波;李屹 | 申请（专利权）人： | 深圳光峰科技股份有限公司 |
| 主分类号： | F21V17/10 | 分类号： | F21V17/10;F21V31/00;G01M3/20 |
| 代理公司： | 广东广和律师事务所 44298 | 代理人： | 陈巍巍 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山区粤*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了红光模组密封结构及其实时密封性检测系统，包括上盖和下盖，上盖的顶部设置有视窗，上盖和下盖相贴合的相对两侧壁至少有一侧壁设置有磨砂面和平面，平面位于磨砂面的内圈，上盖和下盖的贴合面的内圈粘涂有第一胶水，上盖和下盖的贴合面的外圈粘涂有第二胶水，所述第一胶水的附着力和硬度大于所述第二胶水的附着力和硬度，第二胶水的粘涂区域包含磨砂区域。以此结构设计，通过磨砂面及平面的设置，有效提升胶水附着力，增强红光模组的气密性；此外，本发明还提供了一种实时密封性检测系统，该系统通过惰性气体检测传感器的设置，能够实时快速的检测红光模组气密性，并对密封不良位置进行快速定位。 | ||
| 搜索关键词： | 胶水 上盖 红光模组 附着力 下盖 密封性检测系统 贴合 粘涂 密封结构 磨砂面 气密性 内圈 不良位置 顶部设置 惰性气体 快速定位 磨砂区域 相对两侧 平面的 传感器 检测 磨砂 视窗 密封 | ||
【主权项】：
1.一种红光模组密封结构，包括上盖和下盖，所述上盖的顶部设置有视窗，其特征在于：所述上盖和所述下盖相贴合的相对两侧壁至少有一侧壁设置有磨砂面和平面，所述平面位于所述磨砂面的内圈，所述上盖和所述下盖的贴合面的内圈粘涂有第一胶水，所述上盖和所述下盖的贴合面的外圈粘涂有第二胶水，所述第一胶水的附着力和硬度大于所述第二胶水的附着力和硬度，所述第二胶水的粘涂区域包含磨砂区域。
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