[发明专利]衬管组件、等离子体处理装置和等离子体处理基板的方法

摘要

本申请涉及衬管组件、等离子体处理装置和等离子体处理基板的方法。本发明揭示一种等离子体处理装置，该等离子体处理装置包含腔室盖、腔室主体及支撑组件。该腔室主体界定处理容积，该处理容积用于含有等离子体，该腔室主体用于支撑该腔室盖。该腔室主体由腔室侧壁、底壁及衬管组件组成。该腔室侧壁及该底壁界定处理容积，该处理容积用于含有等离子体。该衬管组件设置在该处理容积内部，该衬管组件包含两个或两个以上狭槽，该狭槽在衬管组件上形成，该狭槽用于提供轴向对称的射频电流路径。该支撑组件支撑基板，以在该腔室主体内部进行处理。本发明使用具有若干对称狭槽的衬管组件，可防止该衬管组件的电磁场产生方位角不对称现象。

主权项

1.一种用于等离子体处理装置的衬管组件，所述等离子体处理装置具有坚固侧壁，所述坚固侧壁具有形成于所述坚固侧壁中的单一狭缝阀，所述衬管组件包括：圆柱形主体，所述圆柱形主体具有外壁，所述外壁经尺寸调整以滑入所述坚固侧壁内；外部壁架；以及多个狭槽，所述多个狭槽穿过所述圆柱形主体而形成，其中所述多个狭槽的第一狭槽经尺寸调整以允许基板穿过其间，且其中所述多个狭槽的其他狭槽经尺寸调整以补偿因所述第一狭槽引起的射频电流密度集中，且其中所述狭槽围绕所述圆柱形主体的中心轴以极性阵列布置以便提供轴向的和方位角对称的射频返回路径。