[发明专利]一种发光二极管的外延片及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201810353183.3 申请日: 2018-04-19
公开(公告)号: CN108511570A 公开(公告)日: 2018-09-07
发明(设计)人: 王志敏;黄丽凤 申请(专利权)人: 如皋市大昌电子有限公司
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 226578 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种发光二极管的外延片及其制备方法,包括衬底、缓冲层、未掺杂氮化镓层、N型氮化镓层、多量子阱发光层、空穴提供层和P型氮化镓层,所述衬底的顶部设置有缓冲层,所述缓冲层的顶部设置有未掺杂氮化镓层,所述未掺杂氮化镓层的顶部设置有N型氮化镓层,所述N型氮化镓层的顶部设置有多量子阱发光层,所述多量子阱发光层的顶部设置有空穴提供层,所述空穴提供层的顶部设置有P型氮化镓层,包括如下步骤:步骤一,固定及切割;步骤二,退火;步骤三,倒角;步骤四,分档检测及分离;步骤五,研磨;步骤六,清洗;该方法,有利于多次清洗,同时有利于提升腐蚀的效率。
搜索关键词: 顶部设置 多量子阱发光层 未掺杂氮化镓层 空穴 缓冲层 发光二极管 外延片 衬底 制备 清洗 退火 研磨 倒角 分档 切割 腐蚀 检测
【主权项】:
1.一种发光二极管的外延片,包括衬底(1)、缓冲层(2)、未掺杂氮化镓层(3)、N型氮化镓层(4)、多量子阱发光层(5)、空穴提供层(6)和P型氮化镓层(7),其特征在于:所述衬底(1)的顶部设置有缓冲层(2),所述缓冲层(2)的顶部设置有未掺杂氮化镓层(3),所述未掺杂氮化镓层(3)的顶部设置有N型氮化镓层(4),所述N型氮化镓层(4)的顶部设置有多量子阱发光层(5),所述多量子阱发光层(5)的顶部设置有空穴提供层(6),所述空穴提供层(6)的顶部设置有P型氮化镓层(7)。
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