[发明专利]用于过程监控和反馈控制的纳米结构

摘要

本发明提供了用于过程监控和反馈控制的纳米结构，提供各种技术来利用纳米结构用于过程监控和反馈控制。在一个实例中，方法包括形成包含分布在其中的纳米结构的材料的层。每个纳米结构包括量子点和包封量子点的壳。壳和量子点配置为响应于激发信号而分别发射第一和第二波长。该方法进一步包括将激发信号施加到材料的层的至少一部分。该方法进一步包括检测来自材料的层的一部分的发射信号，其中发射信号由纳米结构的至少一个子集响应于激发信号而提供。该方法进一步包括基于至少发射信号的波长确定是否已经满足制造特性。还提供了相关的系统和产品。

主权项

1.一种用于增材制造过程的过程监控和反馈控制的方法，包括：形成包括分布于其中的多个纳米结构的材料的层，其中每个所述纳米结构包括量子点和包封所述量子点的壳，其中所述壳配置为响应于激发信号而发射第一波长，并且其中所述量子点配置为响应于所述激发信号而发射第二波长；将所述激发信号施加到所述材料的层的至少一部分上；检测来自所述材料的层的所述部分的发射信号，其中所述发射信号由所述多个纳米结构的至少一个子集响应于所述激发信号而提供；以及基于至少所述发射信号的波长来确定是否已经满足制造特性。