[发明专利]绝缘栅双极型晶体管有效

专利信息
申请号: 201810368483.9 申请日: 2018-04-23
公开(公告)号: CN108365007B 公开(公告)日: 2020-02-28
发明(设计)人: 冯宇翔;甘弟 申请(专利权)人: 广东美的制冷设备有限公司;美的集团股份有限公司
主分类号: H01L29/739 分类号: H01L29/739;H01L29/423;H01L29/49
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 赵天月
地址: 528311 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提出了绝缘栅双极型晶体管,该绝缘栅双极型晶体管包括:漂移区;P阱区,设置在漂移区的一侧;N+发射极,设置在P阱区远离漂移区的一侧;两个沟槽,每个沟槽开设在N+发射极、P阱区和漂移区内,且贯穿N+发射极和P阱区;沟槽氧化层,设置在两个沟槽中且覆盖每个沟槽的表面;两个多晶硅栅极,每个多晶硅栅极填充在沟槽氧化层远离漂移区的一侧,并且,每个多晶硅栅极包括依次层叠设置的N型子栅极和P型子栅极。本发明所提出的IGBT的栅极设置为PN结,如此,可减小栅极与集电极之间的寄生电容Cgc,从而缩短开通时间,进而减小开通损耗。
搜索关键词: 绝缘 栅双极型 晶体管
【主权项】:
1.一种绝缘栅双极型晶体管,其特征在于,包括:漂移区;P阱区,所述P阱区设置在所述漂移区的一侧;N+发射极,所述N+发射极设置在所述P阱区远离所述漂移区的一侧;两个沟槽,每个所述沟槽开设在所述N+发射极、所述P阱区和所述漂移区内,且贯穿所述N+发射极和所述P阱区;沟槽氧化层,所述沟槽氧化层设置在所述两个沟槽中,且覆盖每个所述沟槽的表面;两个多晶硅栅极,每个所述多晶硅栅极填充在所述沟槽氧化层远离所述漂移区的一侧,并且,每个所述多晶硅栅极包括依次层叠设置的N型子栅极和P型子栅极。
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