[发明专利]精细掩模板及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201810369119.4 申请日: 2018-04-23
公开(公告)号: CN108277454B 公开(公告)日: 2021-01-26
发明(设计)人: 王灿;陈小川;玄明花;张粲;岳晗;杨明;肖丽 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 董天宝;于宝庆
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本公开涉及一种精细掩模板及其制备方法,涉及显示技术领域。该精细掩模板包括母板和薄膜层,其中母板包括多个呈阵列排布的掩模单元,各掩模单元包括位于掩模单元中的第一开口区及第一开口区的边缘区域;薄膜层设于母板上,包括多个与掩模单元一一正对的蒸镀有效区且各蒸镀有效区均包括多个呈阵列排布的第二开口区。本精细掩模板一方面克服了常规的母板由于刻蚀精度的限制而无法提高分辨率的问题,提高了分辨率;再一方面,薄膜层与母板的开口可以采用更多样的形状及加工精度,扩大了掩模板的应用范围;另一方面薄膜层与母板可以以多样的形式进行加工及组装,制作简单,降低了成本。
搜索关键词: 精细 模板 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种用于制作OLED显示基板的精细掩模板,其特征在于,包括:母板,所述母板包括多个呈阵列排布的掩模单元,所述掩模单元包括位于掩模单元中的第一开口区及所述第一开口区的边缘区域;薄膜层,设于所述母板上,所述薄膜层包括多个与所述掩模单元一一正对的蒸镀有效区,各蒸镀有效区均包括多个呈阵列排布的第二开口区。
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