[发明专利]Co-Cr-Pt-B型合金溅射靶及其制造方法有效
| 申请号： | 201810374017.1 | 申请日： | 2012-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN108642456B | 公开（公告）日： | 2022-03-25 |
| 发明（设计）人： | 森下雄斗;荻野真一;中村祐一郎 | 申请（专利权）人： | 吉坤日矿日石金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C30/00;C22C5/04;C22C19/07;C22F1/10;C22F1/14;G11B5/851 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 胡嵩麟;王海川 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及Co‑Cr‑Pt‑B型合金溅射靶及其制造方法。一种Co‑Cr‑Pt‑B型合金溅射靶，其特征在于，100μm×100μm面积(视野)内的富B相中的0.1～20μm的裂纹数为10个以下。一种Co‑Cr‑Pt‑B型合金溅射靶的制造方法，其特征在于，对Co‑Cr‑Pt‑B型合金铸锭进行热锻或热轧后，进行伸长率为4％以下的冷轧或冷锻，进行机械加工而制成靶，使100μm×100μm面积(视野)内的富B相中的0.1～20μm的裂纹数为10个以下，或者，对上述铸锭进行热锻或热轧后，骤冷至‑196℃～100℃，进行机械加工而制成靶。本发明的靶的漏磁通密度高且富B层中微裂纹少，因此，能够稳定地放电，抑制电弧。 | ||
| 搜索关键词： | co cr pt 合金 溅射 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种Co‑Cr‑Pt‑B型合金溅射靶，其特征在于，Cr为1～40原子％，Pt为1～30原子％，B为0.2～25原子％，剩余部分由Co及不可避免的杂质构成，100μm×100μm面积(视野)内的富B相中的0.1～20μm的裂纹数为10个以下，相对于溅射面，水平方向的最大磁导率(μmax)为20以下，相对于溅射面，水平方向的矫顽力(Hc)为35Oe以上。
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