[发明专利]一种可控制气流均匀平稳的PECVD装置

摘要

本发明公开了一种可控制气流均匀平稳的PECVD装置，包括射频机构、沉积箱以及透波板，所述进气管连接于进气口上，所述出气管连接于出气口上；所述进气管和出气管之间设置有均流管，所述均流管两侧分别设置有射频机构，所述透波板设置于衬底和射频板之间，且透波板活动连接于均流管靠近射频板一侧。本发明在进气管和出气管之间设置有均流管，用来引导气流，能够同时进行多组硅片的镀膜工作，并且通过透波板的设置，使得放置在衬底上的硅片与透波板之间的间距可以调节至1‑2mm，使得气流在流动时，仅仅通过硅片与透波板之间的狭窄间距，可以气流可以更加容易进行均匀分布和流动，以达到更好的镀膜效果，十分值得推广。

主权项

1.一种可控制气流均匀平稳的PECVD装置，包括射频机构、沉积箱(1)以及透波板(9)，沉积箱(1)两端分别开设有进气口(2)和出气口(3)，其特征在于：所述沉积箱(1)内腔中设置有进气管(4)、出气管(5)和加热装置(10)，所述进气管(4)连接于进气口(2)上，所述出气管(5)连接于出气口(3)上；所述进气管(4)和出气管(5)之间设置有均流管(8)，所述均流管(8)两侧分别设置有射频机构，所述射频机构包括平行设置的衬底(6)、射频板(7)以及透波板(9)，所述透波板(9)设置于衬底(6)和射频板(7)之间，且透波板(9)活动连接于均流管(8)靠近射频板(7)一侧，所述衬底(6)与透波板(9)之间设置有间距1mm‑10mm。