[发明专利]一种光学玻璃元件的数控加工方法、装置及系统有效
| 申请号： | 201810377942.X | 申请日： | 2018-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN108581715B | 公开（公告）日： | 2019-09-24 |
| 发明（设计）人： | 黄金勇;胡庆;谢磊;蔡超;王刚;赵恒;马平;鄢定尧;高胥华 | 申请（专利权）人： | 成都精密光学工程研究中心 |
| 主分类号： | B24B13/00 | 分类号： | B24B13/00;B24B49/02;B24B51/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 罗满 |
| 地址： | 610000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种光学玻璃元件的数控加工方法、装置及系统。其中，方法包括根据光学玻璃元件的面形误差数据与去除函数计算驻留时间函数，以确定第一加工路径；根据第一加工路径对其进行抛光加工，直至其波前PV值不大于预设PV阈值；然后根据匀滑拟合面形误差数据与去除函数计算匀滑驻留时间函数，以确定第二加工路径；根据第二加工路径进行二次抛光加工，直至其RMS值不大于预设GRMS阈值；最后基于匀滑抛光工艺确定伪随机式加工路径，根据伪随机式加工路径进行三次抛光加工，直至其波前PSD1 RMS值、面形PSD2 RMS值和表面粗糙度RMS值均达到合格值，完成元件加工。本申请实现了光学玻璃元件全频段指标的合格加工，提高了光学玻璃元件的加工效率和加工精度。 | ||
| 搜索关键词： | 加工路径 光学玻璃元件 面形误差数据 装置及系统 函数计算 时间函数 数控加工 驻留 伪随机 加工 去除 预设 表面粗糙度 二次抛光 加工效率 抛光工艺 抛光加工 元件加工 次抛光 全频段 面形 拟合 申请 | ||
【主权项】：
1.一种光学玻璃元件的数控加工方法，其特征在于，包括：根据光学玻璃元件的面形误差数据与去除函数，计算驻留时间函数，根据所述驻留时间函数确定所述光学玻璃元件的第一加工路径；根据所述第一加工路径对所述光学玻璃元件进行抛光加工，直至抛光后的光学玻璃元件的波前PV值不大于预设PV阈值；根据匀滑拟合面形误差数据与所述去除函数，计算匀滑驻留时间函数，根据所述匀滑驻留时间函数确定所述光学玻璃元件的第二加工路径；根据所述第二加工路径对抛光后的光学玻璃元件进行二次抛光加工，直至二次抛光后的光学玻璃元件的GRMS值不大于预设GRMS阈值；采用匀滑抛光工艺，确定所述光学玻璃元件的第三伪随机式加工路径，根据所述第三伪随机式加工路径对二次抛光后的光学玻璃元件进行三次抛光加工，直至三次抛光后的光学玻璃元件的波前PSD1 RMS值不大于预设PSD1阈值、面形PSD2 RMS值不大于预设PSD2阈值和表面粗糙度RMS值不大于预设粗糙度阈值；其中，所述匀滑拟合面形误差数据为原始面形数据经过匀滑拟合算法处理后得到的目标收敛面形数据。
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