[发明专利]一种介电常数可控的钛膜的制备方法及其应用有效
| 申请号： | 201810379391.0 | 申请日： | 2018-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN108611602B | 公开（公告）日： | 2020-02-21 |
| 发明（设计）人： | 胡海峰;金梅花;贺涛 | 申请（专利权）人： | 国家纳米科学中心 |
| 主分类号： | C23C14/16 | 分类号： | C23C14/16;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王莹;吴欢燕 |
| 地址： | 100190 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种介电常数可控的钛膜的制备方法，包括：基于目标钛膜的预期介电常数实部，根据已知钛膜的介电常数实部随入射光波长的变化曲线，选定制备所述目标钛膜的气体含氧量，进行制备，所述已知钛膜为在0～0.2V％范围内调整气体含氧量制备获得的多个钛膜。本发明提供的一种介电常数可控的钛膜的制备方法，通过调整通入镀膜室中的气体氧含量，制备得到一系列钛膜，再分析出这一系列钛膜的介电常数实部随入射光波长的变化曲线，以所述变化曲线为参照，选定制备目标钛膜的气体氧含量并进行制备，最终有效地实现钛膜的介电常数可控，克服了同种金属薄膜的介电常数实部难以调控正负值的技术问题，扩大了金属薄膜的应用范围。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 介电常数 可控 制备 方法 及其 应用 | ||
【主权项】：
1.一种介电常数可控的钛膜的制备方法，其特征在于，包括：基于目标钛膜的预期介电常数实部，根据已知钛膜的介电常数实部随入射光波长的变化曲线，选定制备所述目标钛膜的气体含氧量，进行制备，所述已知钛膜为在0～0.2V％范围内调整气体含氧量制备获得的多个钛膜。
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