[发明专利]清洗光刻版的辅助载具和光刻版清洗机有效
申请号: | 201810380557.0 | 申请日: | 2018-04-25 |
公开(公告)号: | CN108776422B | 公开(公告)日: | 2022-02-11 |
发明(设计)人: | 黄杰 | 申请(专利权)人: | 华灿光电(苏州)有限公司 |
主分类号: | G03F1/82 | 分类号: | G03F1/82 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 徐立 |
地址: | 215600 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了清洗光刻版的辅助载具和光刻版清洗机,属于光刻版加工领域。将辅助载具设置为包括载板及至少2个压块,载板上设置有安装槽,光刻版平行放置在安装槽内。在清洗机对光刻版进行清洗时,固定放置在清洗机上的辅助载具随载台一同旋转。至少2个的压块的转动轴均位于压块的中部,并将其分为第一部分与第二部分,第一部分与第二部分分别延伸至安装槽的上方与下方,其重心设置在第二部分上,在辅助载具的旋转过程中,便于压块将光刻版压紧在载板上对光刻版进行固定,使得光刻版不会脱离载台而受损。 | ||
搜索关键词: | 清洗 光刻 辅助 | ||
【主权项】:
1.一种清洗光刻版的辅助载具,其特征在于,所述辅助载具用于可拆卸固定在清洗机的载台上;所述辅助载具包括载板及至少两个压块,所述载板上设置有安装槽,所述安装槽内开设有用于供清洗液流过的第一通孔,所述至少两个压块沿所述安装槽的边沿间隔均匀布置,每个所述压块可转动地设置在所述载板上,所述压块的转动轴位于所述压块的中部,所述压块被所述转动轴分为第一部分和第二部分,所述第一部分延伸到所述载板的上方,所述第二部分延伸到所述载板的下方,所述压块的重心位于所述第二部分上。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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